Ujeedadu waxay leedahay hawlo badan iyo codsiyo ballaadhan oo dhinacyo badan leh.Qalabka sputtering cusub ayaa ku dhawaad isticmaalo magnets awood si ay u rogto electrons si ay u dardar ionization of argon agagaarka bartilmaameedka, taas oo kordhinaysa itimaalka isku dhaca u dhexeeya bartilmaameedka iyo argon ions,
Kordhi heerka wax-soo-saarka.Guud ahaan, sputtering DC waxaa loo isticmaalaa daahan biraha ah, halka sputtering isgaarsiinta RF loo isticmaalo alaabta magnetic dhoobada aan shaqaynayn.Mabda'a aasaasiga ah waa in la isticmaalo dheecaan dhalaalaya si loogu garaaco ions argon (AR) dusha sare ee bartilmaameedka ee vacuum, iyo cations ee balaasmaha ayaa dardar gelin doona si ay ugu degdegaan dusha sare ee korantada taban sida walxaha firdhiyey.Saamayntani waxay ka dhigi doontaa walxaha bartilmaameedka ah inay soo baxaan oo ay dhigaan substrate-ka si ay u sameeyaan filim.
Guud ahaan, waxaa jira dhowr sifooyin oo daahan filimka iyadoo la isticmaalayo habka sputtering:
(1) Birta, dahaadhka ama dahaarka ayaa laga samayn karaa xog filim khafiif ah.
(2) Marka la eego shuruudaha dejinta ku habboon, filimka leh halabuurka isku midka ah ayaa laga samayn karaa bartilmaameedyo badan oo khalkhalsan.
(3) Isku darka ama isku dhafka walxaha bartilmaameedka ah iyo molecules gaaska waxaa lagu samayn karaa iyada oo lagu daro ogsijiinta ama gaasaska kale ee firfircoon ee jawiga qulqulaya.
(4) Waqtiga xaadirka ah ee la geliyo bartilmaameedka iyo wakhtiga sputtering waa la xakameyn karaa, waana sahlan tahay in la helo dhumucda filimka saxda ah.
(5) Waxay faa'iido u leedahay soo saarista filimada kale.
(6) Qaybaha firidhsan ayaa si dhib leh u saameeya cufisjiidka, bartilmaameedka iyo substrate-ka ayaa loo habayn karaa si xor ah.
Waqtiga boostada: May-24-2022