Bartilmaameedku wuxuu leeyahay saamayn badan, iyo goobta horumarinta suuqa waa weyn.Aad bay faa'iido ugu leedahay dhinacyo badan.Ku dhowaad dhammaan qalabka cusub ee sputtering waxay isticmaalaan magnets xoog leh si ay u sameeyaan electrons wareeg ah si ay u dardar ionization of argon agagaarka bartilmaameedka, taasoo keentay in kororka ixtimaalka isku dhaca u dhexeeya bartilmaameedka iyo argon ions.Hadda aynu eegno doorka sputtering target ee daahan vacuum.
Hagaajinta heerka xajinta.Guud ahaan, sputtering DC waxaa loo isticmaalaa daahan biraha ah, halka RF AC sputtering waxaa loo isticmaalaa qalabka magnetka dhoobada ah ee aan shaqaynayn.Mabda'a aasaasiga ah waa in la isticmaalo dheecaan dhalaalaya si loogu garaaco ions argon (AR) dusha sare ee bartilmaameedka ee vacuum, iyo cations ku jira balasmaha ayaa dardar gelin doona si ay ugu degdegaan dusha elektirod-ka taban sida walaxda daadsan.Saamayntani waxay ka dhigi doontaa walxaha bartilmaameedka ah inay soo baxaan oo ay dhigaan substrate-ka si ay u sameeyaan filim.
Guud ahaan, waxaa jira dhowr sifooyin oo daahan filimka by habka sputtering: (1) Biraha, Alloy ama insulator waxaa laga dhigi karaa xogta filimka.
(2) Marka la eego shuruudaha dejinta ku habboon, filimka leh halabuurka isku midka ah ayaa laga samayn karaa bartilmaameedyo badan oo khalkhalsan.
(3) Isku darka ama isku dhafka walxaha bartilmaameedka ah iyo molecules gaaska waxaa la soo saari karaa iyadoo lagu daro ogsijiinta ama gaasaska kale ee firfircoon ee jawiga qulqulaya.
(4) Waqtiga xaadirka ah ee la geliyo bartilmaameedka iyo wakhtiga sputtering waa la xakameyn karaa, waana sahlan tahay in la helo dhumucda filimka saxda ah.
(5) Marka la barbar dhigo hababka kale, waxay ku haboon tahay soo saarista filimaanta lebiska ee aagga weyn.
(6) Qaybaha kala firdhiyey waxay ku dhow yihiin inaanay saamayn cufisjiidad, iyo boosaska bartilmaameedka iyo substrate si xor ah ayaa loo habayn karaa.
Waqtiga boostada: Meey-17-2022